เป้าหมายไทเทเนียม GR5วัสดุหมายถึงแหล่งกำเนิดสปัตเตอร์ที่สร้างฟิล์มที่มีฟังก์ชันต่างๆ บนซับสเตรตโดยแมกนีตรอนสปัตเตอร์ การชุบไอออนแบบมัลติอาร์ค หรืออุปกรณ์เคลือบประเภทอื่นๆ ภายใต้สภาวะกระบวนการที่เหมาะสม เป้าหมายการสปัตเตอร์ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในการตกแต่ง แม่พิมพ์ แก้ว อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ เซมิคอนดักเตอร์ การบันทึกด้วยแม่เหล็ก การแสดงเครื่องบิน เซลล์แสงอาทิตย์ และสาขาอื่น ๆ อีกมากมาย

ความบริสุทธิ์เป็นหนึ่งในดัชนีประสิทธิภาพหลักของวัสดุเป้าหมาย เนื่องจากความบริสุทธิ์ของวัสดุเป้าหมายมีอิทธิพลอย่างมากต่อประสิทธิภาพการทำงานที่บาง

วัสดุเป้าหมายที่แตกต่างกันมีข้อกำหนดที่แตกต่างกันสำหรับเนื้อหาที่มีสิ่งเจือปนต่างกันภายใต้เงื่อนไขที่แตกต่างกัน

โดยปกติ วัสดุเป้าหมายคือคริสตัลไลน์ที่มีขนาดเกรนตั้งแต่ไมครอนจนถึงมิลลิเมตร สำหรับเป้าหมายเดียวกัน อัตราการสปัตเตอร์ของเป้าหมายที่มีเกรนละเอียดจะเร็วกว่าเป้าหมายที่มีเกรนหยาบ ฟิล์มบางที่สะสมโดยการสปัตเตอร์เป้าหมายโดยมีความแตกต่างของขนาดเกรนที่เล็กกว่า (การกระจายแบบสม่ำเสมอ) มีการกระจายความหนาที่สม่ำเสมอมากขึ้น

ซัพพลายเออร์เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียม

High Purity Titanium Sputtering Target เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง